在 ChatGPT 引爆 AI 熱潮后的兩年間，全球算力需求以每年超過 400% 的速度激增。隨著 DeepSeek 等國產大模型的技術突破，這場算力競賽正以前所未有的深度重塑半導體產業鏈。作為數字經濟的基礎設施，溫控技術在芯片制造、服務器散熱及數據中心運營中扮演著愈發關鍵的角色。深耕行業三十載的阿爾西，正憑借全鏈條溫控解決方案，為 AI 時代的算力革命提供核心技術支撐。

突破物理極限的溫控挑戰

當半導體工藝向 3 納米以下制程邁進時，EUV 光刻技術對溫度波動的容忍度已降至納米級。阿爾西 VENUS 系列溫控機臺通過 ±0.1℃的超精度控制，成功解決了光刻膠形變難題。其創新的雙通道切換系統（VENUS-CHD1015）可在 - 20℃至 + 90℃的寬溫域內快速響應工藝需求，結合智能算法與液冷技術，使能耗降低 30% 的同時，生產效率提升 45%。該設備已通過 CE、Semi-S2 等國際認證，成為先進制程產線的標配裝備。

智慧化熱管理體系

針對全球數據中心 3% 的電力消耗現狀，阿爾西構建了 "四維聯動" 溫控架構：

自然冷卻中樞：集成干冷塔技術，年自然冷卻時長超 5500 小時，能耗降低 30%；

混合冷卻架構：風墻換熱器與液冷 CDU 智能切換，適應 30-150kW/m2 負載波動；

智能溫控網絡：200 + 傳感器實時優化冷量分配，溫差控制精度 ±0.3℃；

液冷機柜矩陣：單柜 150kW 散熱能力，冷卻密度提升 4 倍；

該體系通過芯片級精密控溫（±5mK）與數據中心級智能管理（±0.3℃）的協同優化，實現年均 PUE<1.15，部署成本降低 50%，為綠色數據中心建設樹立新標桿。

構建全鏈條溫控生態

阿爾西通過三大技術突破構建差異化競爭力：

芯片制造端：超精密控溫技術實現制程良率提升 12%；

服務器散熱端：噴淋液冷技術突破單機柜散熱極限；

數據中心端：智慧化系統實現全生命周期能效優化；

未來，阿爾西將持續深化 AI 技術融合，開發第五代溫控算法，計劃將控溫精度提升至 ±0.05℃，同時探索量子計算散熱等前沿領域。通過構建從納米級制程到兆瓦級數據中心的全鏈條溫控解決方案，阿爾西正助力中國在全球算力競賽中占據戰略主動地位。

在這場由 AI 驅動的產業變革中，溫控技術已成為決定算力基礎設施效能的核心要素。阿爾西憑借三十年技術積淀與持續創新，正為半導體產業升級提供不可或缺的溫控保障。隨著數字經濟的深入發展，其全鏈條溫控解決方案必將在更廣闊的領域發揮關鍵作用，為智能時代的基礎設施建設注入中國智慧。